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制冷制熱循環機廠家支持單一介質線性控制

簡要描述:【無錫冠亞】制冷制熱循環機廠家支持單一介質線性控制,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

  • 產品型號:SUNDI-555W
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-09-11
  • 訪  問  量:51
詳情介紹
品牌冠亞恒溫價格區間10萬-20萬
產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥/生物制藥,綜合

制冷制熱循環機廠家支持單一介質線性控制


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


制冷制熱循環機廠家支持單一介質線性控制

制冷制熱循環機廠家支持單一介質線性控制

      

  在工業溫控領域,高低溫循環裝置與傳統溫控設備均承擔著維持工藝溫度穩定的職能。二者基于不同的設計理念與技術路徑,在實際運行中呈現出明顯的性能差異。

  一、系統結構:密閉設計與傳統設計的核心差異

  高低溫循環裝置采用全密閉循環系統設計,其核心在于通過單獨的膨脹容器實現導熱介質與空氣的隔離。膨脹容器內的介質不參與循環,且始終維持在常溫區間,從根本上避免了導熱介質與空氣中氧氣、水分的接觸,減少了介質氧化、吸潮的風險。同時,系統管路采用一體密閉結構,無機械或電子閥門的頻繁切換,降低了因部件磨損導致的故障概率。

  傳統溫控設備導熱介質直接與空氣接觸。在高溫運行時,介質易因氧化出現褐化、黏度增加等問題;低溫運行時則會吸收空氣中的水分,導致系統換熱效率下降,甚至引發管路堵塞。部分半密閉設備雖嘗試減少介質與空氣的接觸,但仍有部分循環介質暴露于環境中,未能解決上述問題。

  二、溫控效率:動態響應與滯后控制的性能分野

  高低溫循環裝置采用多級控溫算法與三點采樣技術,通過物料溫度、介質進出口溫度的實時監測,結合前饋PID與滯后預估算法,實現對溫度變化的快速響應。其系統內參與循環的介質容積較小,熱量傳遞直接作用于反應體系,可在較寬的溫度范圍內實現準確控溫,且升溫、降溫過程無需人工干預,能避免溫度過沖。

  傳統溫控設備多依賴單一介質出口溫度控制,對物料溫度的監測僅作為輔助顯示,無法實現動態調節。由于系統容積較大,且換熱效率受介質狀態影響,溫度響應存在明顯滯后。在高溫向低溫切換時,需通過閥門切換先排出高溫介質,再注入低溫介質,操作繁瑣。

  三、運行穩定性:介質使用周期與設備可靠性的雙重考量

  高低溫循環裝置的密閉系統設計延長了導熱介質的使用周期。由于介質不與空氣接觸,其物理化學性質長期保持穩定,無需頻繁更換,減少了因介質劣化導致的系統故障。同時,裝置采用耐高低溫磁力驅動泵,無機械軸封,避免了傳統離心泵的泄漏問題,且循環泵流量穩定,能為系統提供持續可靠的動力。

  傳統溫控設備因介質易氧化,需要定期更換導熱介質。其采用的機械密封式循環泵長期運行后易出現泄漏,且閥門、換熱器等部件受介質狀態影響較大,故障發生率較高。雖然傳統設備也具備基本的安全保護功能,但缺乏對溫度梯度、介質狀態的動態監測,難以應對復雜工藝中的突發狀況。



制冷制熱循環機廠家支持單一介質線性控制





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